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什么是肖特基二極管及肖特基二極管的工作原理

時(shí)間:2009-09-17 13:53:53來(lái)源:網(wǎng)絡(luò ) 作者:admin 點(diǎn)擊:
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   什么是肖特基二極管?肖特基勢壘二極管SBD(SchottkyBarrierDiode,簡(jiǎn)稱(chēng)肖特基二極管)是近年來(lái)間世的低功耗、大電流、超高速半導體器件。其反向恢復時(shí)間極短(可以小到幾納秒),正向導通壓降僅0.4V左右,而整流電流卻可達到幾千安培。這些優(yōu)良特性是快恢復二極管所無(wú)法比擬的。中、小功率肖特基整流二極管大多采用封裝形式。

一、肖特基二極管工作原理

肖特基二極管是貴金屬(金、銀、鋁、鉑等)A為正極,以N型半導體B為負極,利用二者接觸面上形成的勢壘具有整流特性而制成的多屬-半導體器件。因為N型半導體中存在著(zhù)大量的電子,貴金屬中僅有極少量的自由電子,所以電子便從濃度高的B中向濃度低的A中擴散。顯然,金屬A中沒(méi)有空穴,也就不存在空穴自A向B的擴散運動(dòng)。隨著(zhù)電子不斷從B擴散到A,B表面電子濃度表面逐漸降輕工業(yè)部,表面電中性被破壞,于是就形成勢壘,其電場(chǎng)方向為B→A。但在該電場(chǎng)作用之下,A中的電子也會(huì )產(chǎn)生從A→B的漂移運動(dòng),從而消弱了由于擴散運動(dòng)而形成的電場(chǎng)。當建立起一定寬度的空間電荷區后,電場(chǎng)引起的電子漂移運動(dòng)和濃度不同引起的電子擴散運動(dòng)達到相對的平衡,便形成了肖特基勢壘。

典型的肖特基整流管的內部電路結構是以N型半導體為基片,在上面形成用砷作摻雜劑的N-外延層。陽(yáng)極(阻檔層)金屬材料是鉬。二氧化硅(SiO2)用來(lái)消除邊緣區域的電場(chǎng),提高管子的耐壓值。N型基片具有很小的通態(tài)電阻,其摻雜濃度較H-層要高100%倍。在基片下邊形成N+陰極層,其作用是減小陰極的接觸電阻。通過(guò)調整結構參數,可在基片與陽(yáng)極金屬之間形成合適的肖特基勢壘,當加上正偏壓E時(shí),金屬A和N型基片B分別接電源的正、負極,此時(shí)勢壘寬度Wo變窄。加負偏壓-E時(shí),勢壘寬度就增加。

綜上所述,肖特基整流管的結構原理與PN結整流管有很大的區別通常將PN結整流管稱(chēng)作結整流管,而把金屬-半導管整流管叫作肖特基整流管,近年來(lái),采用硅平面工藝制造的鋁硅肖特基二極管也已問(wèn)世,這不僅可節省貴金屬,大幅度降低成本,還改善了參數的一致性。

肖特基整流管僅用一種載流子(電子)輸送電荷,在勢壘外側無(wú)過(guò)剩少數載流子的積累,因此,不存在電荷儲存問(wèn)題(Qrr→0),使開(kāi)關(guān)特性獲得時(shí)顯改善。其反向恢復時(shí)間已能縮短到10ns以?xún)。但它的反向耐壓值較低,一般不超過(guò)去時(shí)100V。因此適宜在低壓、大電流情況下工作。利用其低壓降這特點(diǎn),能提高低壓、大電流整流(或續流)電路的效率。

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